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产品详情
简单介绍:
用于有机合成实验的自动化、省力和高性能温度控制
PPX-1000
Single Master是一个紧凑的个人模型,满足了精细化工(制药、新材料、电子、化工)领域有机化学和工艺化学研发中下一代合成方法的要求。
详情介绍:
该装置配有可自动改变冷却速度和滴水速度的系统,以便可以控制容器内的温度,使其不偏离反应温度。 在发生放热反应时,可以自动停止冷却和滴水,因此您可以将视线从实验上移开或进行夜间实验。
・铝块温度箱新开发的水冷加热和冷却机构,可在-40~180°C范围内调节温度。 在-40°C的温度下,也可以通过自来水进行冷却实验。
・铝块温度箱可以**、清洁地使用,没有油污和飞溅的危险。
・外部温度控制(加热、冷却、等温和梯度控制)只能在主机中进行,并且可以通过组合可选的容器温度控制传感器、搅拌器(搅拌器、叶轮)、用于滴灌控制的注射泵和用于连续输送的柱塞泵,根据目的对系统进行配置。
・反应容器与ChemiStation PPV型相同,可使用合成规模为150 mL的反应容器。 新添加的带有流出喷嘴的容器允许从反应容器底部提取液体。 通过连接聚四氟乙烯®管,可以进行连续反应(CSTR),并且可以进行质量合成。
・有“温度控制稳定”、“搅拌功率增加”、“强烈发热的反应”、“低温反应”、“长期高精度滴灌”、“快速和慢速冷却”、“突然质量合成”等多种选择。
・铝块温度箱新开发的水冷加热和冷却机构,可在-40~180°C范围内调节温度。 在-40°C的温度下,也可以通过自来水进行冷却实验。
・铝块温度箱可以**、清洁地使用,没有油污和飞溅的危险。
・外部温度控制(加热、冷却、等温和梯度控制)只能在主机中进行,并且可以通过组合可选的容器温度控制传感器、搅拌器(搅拌器、叶轮)、用于滴灌控制的注射泵和用于连续输送的柱塞泵,根据目的对系统进行配置。
・反应容器与ChemiStation PPV型相同,可使用合成规模为150 mL的反应容器。 新添加的带有流出喷嘴的容器允许从反应容器底部提取液体。 通过连接聚四氟乙烯®管,可以进行连续反应(CSTR),并且可以进行质量合成。
・有“温度控制稳定”、“搅拌功率增加”、“强烈发热的反应”、“低温反应”、“长期高精度滴灌”、“快速和慢速冷却”、“突然质量合成”等多种选择。
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▶▶▶ 个人有机合成器单主PPX-1000介绍
组件图
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多种选项组合。 系统配置示例

- 各部分名称

易于阅读的显示屏
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设备显示 MANU 屏幕
配备
新开发的控制器“eReact”。 可以轻松设置状态研究所需的重要参数(温度、搅拌、滴水),并可以高精度地进行级联控制。
* 您可以切换到英语。
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设备显示 操作画面
在操作过程中
,很容易更改设置、停止、更改和重新执行反应。 每个参数每秒监控一次,因此您可以立即检查系统的运行状态。
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易于控制和数据报告
使用
专用控制器“eReact”,可以高精度操作单个反应参数(温度、搅拌、滴水量),并支持从温度控制到数据记录的所有功能,有助于改善实验室研究环境。
它支持USB导出,可以将记录的数据保存到外部存储器中。
它可以从间歇到连续使用,并且可以响应过去难以的反应条件。
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铝制块温室通过水冷帕尔贴实现较宽的温度控制范围(-40°C~180°C)。 只需在15~30°C下供水,就可以在-40°C的温度下进行冷却实验,这在以前是很困难的。 由于水用于热交换,因此可以满足无氟氯化碳和盐水法规的要求,GWP值为零。
批处理和流式两种。
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可以构建两种类型的系统:批处理类型(批处理类型)和流类型(CSTR)。 通过连接多个主机并将它们与试剂加样泵(可选)组合,可以实现反应的并行化和连续性。 根据实验目的,可以构建温度条件研究、滴水条件研究、双连续反应和放大合成等系统。 它配备了提升功能,可调节铝块温度室的高度,以调节连续(CSTR)期间反应溶液的水位。
容器温度控制(可选)
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铝制块温度箱配有加热和冷却 P.I.D. 控制装置,并配有允许冷却速度可变的**系统。 使用容器内温度传感器(可选),可以将温度条件设置为反应温度(梯度+保温,时间)和结束温度(保温,时间)。 内部温度控制配备与生产设备相同的级联控制,反应温度(内部温度、外部温度、等温温度、梯度)和反应时间控制精度高。 此外,它还可以与注射泵结合使用,以自动控制试剂的添加。 在设定的温度范围内,在去除反应热量的同时,**地进行滴水。
TR:内部温度(反应液温度),TJ:外部温度(铝块温度),FEED(滴水量):注射泵滴水量
PPV系列共用的反应容器
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反应容器与ChemiStation PPV型相同,可采用合成规模为150 mL、外径为60 mm的反应容器,少量10~50 mL和多个样品即可检查反应条件。
还添加了一个带有流出喷嘴的容器,允许从反应容器底部提取液体。 通过连接聚四氟乙烯®管,可以进行连续反应(CSTR),并且可以进行质量合成。
仕様
目的に合せ別売りオプションの容器内液温制御センサ、撹拌(スターラー、インペラー)、滴下制御用シリンジポンプ、連続化用プランジャーポンプを選定してシステムを構築してください。製品名 |
パーソナル有機合成装置 :シングルマスター |
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型式 |
PPX-1000 |
製品コードNo. |
283040 |
価格 (税別) |
¥ 2,500,000 |
反応方法 | オプション選定によりバッチ式(回分式)とフロー式(CSTR)可能 |
撹拌方式 | スターラー(別売り)・インペラー(別売り) |
反応容器本数 | 1本 |
合成スケール | *大150mL(反応容器、ガラスパーツは別売です。) |
温度調節範囲 | -40.0~180.0℃(恒温槽温度) 冷却水循環装置(当社CCA型、その他冷水)との接続が必要です。 |
温度調節精度 | ±0.1℃ (恒温槽温度表示値) |
回転速度範囲 インペラーユニット(別売り) |
高速モータ 0、125~1000rpm、*大軸トルク 19.6mN・m 中速モータ 0、32~250rpm、*大軸トルク 68.6mN・m 低速モータ 0、8~63rpm、*大軸トルク 196mN・m |
回転速度範囲 スターラーユニット(別売り) |
0、100~2000rpm |
設定・表示 | シートキー入力・カラーTFT液晶表示(4.3インチ)、LED表示バー(色表示) |
温度表示分解能 | 0.1℃ |
温度制御 | 加熱・冷却P.I.D.制御。容器内温度制御(別売り液温センサ必要)/外温制御の選択可能、定値制御、勾配制御。 |
滴下制御 | シリンジポンプユニットPPX-10SS型(別売り):滴下総量(mL)、滴下時間(min)、滴下温度範囲(℃)、オート/マニュアル |
連続添加制御 | プランジャーポンプEUI-22-110P型(別売り):定流量送液(0~9.99mL/min) |
付属機能 | 終了温度設定、P.I.D.定数変更、モータ選択、ポンプ選択、日本語・英語(切替え表示) |
恒温槽上下動作機能 | 手動式上下スライド(ストローク114mm、ロック機構付き) |
数据记录和报告 | 将记录的数据从 USB 端口 TypeA 输出到 USB 存储器(单独出售),格式为 csv,格式:FAT32 |
反应观察 | 带观察窗 |
液体温度测量 | 液体温度传感器 PT-1000S/H/T(另售) |
**特性 | 反应段滴灌接收结构、漏电断路器、过流保护(熔断器)、雷电浪涌保护、电机过载保护、限温器上下限温器设置、温度传感器断线检测、温度室温度传感器异常检测、定温过热预防装置(恒温室195°C、水冷式帕尔贴元件45°C) |
加热和冷却方式 | 加热器 200 W / 水冷式 Peltier Max.250 W |
温度传感器 | 铂RTD Pt1000Ω |
温度控制和搅拌部分 | 包括温度控制单元,选择搅拌 |
反应容器 | 60 mm、150 mL 容器,用于化学站 PPV 型(单独出售) |
接液部件材料 | 玻璃、PTFE、PEEK、FFKM(取决于容器) |
冷却水连接直径 | 外径10.5mm软管口 |
环境温度 | 5~35°C |
电源输入 | 8A、800VA |
电源电压 | AC100~240V 50/60赫兹 |
外形尺寸 (mm) | 301(315)W×444(511)D×518(526)H |
质量 | 约23kg |
* 性能基于 20°C 的室温和额定电源电压。
* 请将15~30°C以下的流量调节至2L/min以上,水压调节至0.06MPa以下,然后连接使用。 或者,使用冷却水循环系统 CCA-1123A(在设定温度为 20°C 的温度下循环水)。
* 括号中的尺寸包括突起。
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