日本西格玛多层电介质膜平板半反射镜（PSMH）针对 45° 入射、以 1:1 分束为目标设计，用于激光谱线与宽谱段分束，结构为平板式（平行或楔型），正面电介质分光膜、背面 AR 膜。
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适用于可见到近红外的激光谱线与多波长光源分束；大口径、低吸收、可多片级联。
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线偏光下反射 / 透射随偏振方向变化，建议 45° 线偏或圆偏以逼近 1:1。
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与铬膜分光镜相比，电介质膜吸收更低、更适合高功率 / 脉冲激光。
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分束比：反射：透射≈1:1（P/S 平均）。
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波长范围：PSMH-550 400–700 nm；PSMH-800 700–900 nm；PSMH-1400 1300–1550 nm。
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典型透过率：PSMH-550 平均 50±5%；PSMH-800/1400 中心波长处约 50±3%。
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基材与面型：BK7（常用）/ 合成石英；基板面型精度 λ/10；表面质量 10-5。
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尺寸：如 φ25.4×3 mm、φ30×3/5 mm、φ50×5/8 mm，有效直径约为外径 90%。
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入射角：推荐 45°；偏离会改变 T (λ) 曲线。
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偏振特性：线偏光 R/T 随偏振方向变化；需 1:1 时用 45° 线偏或圆偏。
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透过光位移：因厚度与折射率产生平行位移；楔型同时产生约 30′偏角。
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激光损伤阈值：约 2.1 J/cm²（10 ns，20 Hz）。
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